单晶硅切片及清洗对水质极为严格,要求电阻值:15-18MΩ/cm, 所以我们采用二级反渗透+离子交换工艺。产水电阻值可以稳定:18.2MΩ/cm,全部满足 “划片”“膜片”用水要求。
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