硅片清洗用超纯水设备

单晶硅切片及清洗对水质极为严格，要求电阻值：15-18MΩ/cm, 所以我们采用二级反渗透+离子交换工艺。产水电阻值可以稳定：18.2MΩ/cm,全部满足 “划片”“膜片”用水要求。

纯水机性能参数：产水量： 5吨/小时
纯水回收率：≥60%
产水PH : 5-7
产水浊度：≤ 1 NTU
产水电阻率： ≥18.2MΩ/cm（0.056µs/cm）
可溶性硅(SiO2) ：≤0.01mg/L