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硅片清洗用超纯水设备

  • 所属分类:超纯水设备
  • 浏览次数:230次
  • 发布日期:2023/8/10 11:23:47
  • 概述


单晶硅切片及清洗对水质极为严格,要求电阻值:15-18MΩ/cm, 所以我们采用二级反渗透+离子交换工艺。产水电阻值可以稳定:18.2MΩ/cm,全部满足 “划片”“膜片”用水要求。

纯水机性能参数:产水量: 5吨/小时
纯水回收率:≥60%
产水PH   :  5-7
产水浊度  :≤ 1 NTU
产水电阻率: ≥18.2MΩ/cm(0.056µs/cm)
可溶性硅(SiO2)  :≤0.01mg/L
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